חֲדָשׁוֹת

Dummy Wafers The word "dummy" means "fake" or "simulated." Dummy wafers, also known as fake wafers, typically have no pattern or only a few pattern...

תהליך ה- EPI (EPITAXY) הוא טכנולוגיית צמיחת חומרים מרכזית בייצור מוליכים למחצה. זה מראים שכבה של חומר סיליקון או סגסוגת סיליקון באיכות גבוהה או סגס...

המצע הוא הבסיס הפיזי של המכשיר וקובע את היתכנותם והעלות של צמיחה אפיטקסיאלית . השכבה האפיטקסיאלית היא הליבה הפונקציונלית, והביצועים החשמליים והאופט...

מתהליכי CMOs מישוריים מוקדמים ועד Finfets מתקדמים, מצעים מסוג P ממשיכים להיות בשימוש נרחב בתכנון מעגלים משולב. מדוע ייצור מעגלים משולב מעדיף סיליקו...

· המצע הוא הבסיס הפיזי של המכשיר וקובע את היתכנות ועלות הצמיחה האפיטקסיאלית.
· השכבה האפיטקסיאלית היא הליבה הפונקציונלית, והביצועים החשמליים והא...

בייצור מוליכים למחצה ומדע חומרים, האוריינטציה הקריסטלית של פרוס הסיליקון (כמו<100>, <110>, <111>) יש השפעה מכרעת על תכונותיה הפיזיות, התנהגות כימית...

מטרת דילול הוופל

למה לסמים? מהן שיטות הסמים? מה תפקיד הסמים?

מהם אוריינטציות הקריסטל של פרוס הסיליקון?
כמה קצוות מיקום יש?
כיצד ממוקם קצה המיקום?
מה ההבדל בין קצה המיקום לחריץ המיקום?

דילול רקיק הוא צעד מרכזי בייצור מוליכים למחצה, ומטרתו העיקרית היא לעמוד בדרישות של ביצועי שבב, אריזה, פיזור חום וכו '.

סיליקון (SI) הוא חומר ליבה בתעשיית המוליכים למחצה, וטכנולוגיית העיבוד שלו חיונית לפיתוח מיקרואלקטרוניקה ומערכות מיקרואלקטרומכניות (MEMS). בעיבוד הס...

מנגנון של צמיחת סיליקון ניטריד צמיחה LPCVD משוואה: המשוואה לצמיחת PECVD היא: משתי הדמויות לעיל, אנו יכולים לראות כי: SIH4 מספק את מקור ה- SI, ו- N2...