מהן השיטות לניקוי פרוסות סיליקון?

קיימות שתי שיטות להסרת זיהום מפרוסות סיליקון: ניקוי פיזי וניקוי כימי.
1. ניקוי כימי נועד להסיר את הזיהום הבלתי נראה של אטומים ויונים. ישנן שיטות רבות, כגון מיצוי ממסים, כבישה (חומצה גופרתית, חומצה חנקתית, אקווה רג'יה, חומצות מעורבות שונות וכו') ושיטת פלזמה. ביניהם, לשיטת ניקוי מערכת מי חמצן יש השפעה טובה וזיהום סביבתי מועט. השיטה הכללית היא לנקות את רקיקת הסיליקון בתמיסת חומצה עם יחס הרכב של H2SO4:H2O2=5:1 או 4:1. תכונת החמצון החזקה של תמיסת הניקוי יכולה להתפרק ולהסיר חומרים אורגניים; לאחר שטיפה במים טהורים, השתמש באלקלי עם יחס הרכב של H2O:H2O2:NH4OH=5:2:1 או 5:1:1 או 7:2:1 עקב החמצון של H2O2 והקומפלקס של NH4OH, יוני מתכת רבים יוצרים קומפלקסים מסיסים יציבים ומתמוססים במים; לאחר מכן השתמש ביחס הרכב של H2O:H2O2:HCL=7:2:1 או 5:2:1 תמיסת ניקוי חומצית, עקב חמצון של H2O2, פירוק חומצה הידרוכלורית וקומפלקס של יוני כלוריד, מתכות רבות יוצרות יונים מורכבים המסיסים במים, כדי להשיג את מטרת הניקוי.
ניתוח אטומי רדיוטראסר וניתוח ספקטרומטריית מסה הראו שלמערכת מי חמצן הייתה את השפעת הניקוי הטובה ביותר על פרוסות סיליקון, ובמקביל ניתן היה להנדיף לחלוטין את כל הריאגנטים הכימיים H2O2, NH4OH ו- HCl. בעת ניקוי פרוסת הסיליקון עם H2SO4 ו-H2O2, על פני פרוסת הסיליקון יישארו כ-2×1010 אטומים לסנטימטר רבוע של אטומי גופרית, אותם ניתן להסיר לחלוטין על ידי תמיסת הניקוי החומצית האחרונה. ניקוי פרוסות הסיליקון עם מערכת H2O2 אינו מכיל שאריות, הוא פחות מזיק, וגם מועיל לבריאות העובדים ולשמירה על איכות הסביבה. לאחר ניקוי פרוסות הסיליקון עם תמיסת ניקוי בכל שלב, יש לשטוף אותה היטב במים טהורים במיוחד.
2. ישנן שלוש שיטות לניקוי פיזי.
(1) צחצוח או קרצוף: זה יכול להסיר זיהום חלקיקים ורוב הסרט נדבק לסדין.
(2) ניקוי בלחץ גבוה: משטח הסדין מרוסס בנוזל, ולחץ הזרבובית גבוה עד כמה מאות אטמוספרות. ניקוי בלחץ גבוה מסתמך על ריסוס, והסרט לא קל לשרוט ולפגוע. עם זאת, ריסוס בלחץ גבוה יפיק חשמל סטטי, שניתן להימנע ממנו על ידי התאמת המרחק והזווית מהזרבובית לסרט או הוספת חומרים אנטי סטטיים.
(3) ניקוי אולטראסוני: אנרגיית קול אולטראסונית מוכנסת לתמיסה, והזיהום על הסרט נשטף על ידי קוויטציה. עם זאת, קשה יותר להסיר חלקיקים קטנים מ-1 מיקרון מיריעות בדוגמת. הגדל את התדר לפס התדרים הגבוה במיוחד, ואפקט הניקוי טוב יותר.